隨著技術(shù)的發(fā)展，目前越來(lái)越多的光學(xué)系統(tǒng)采用多譜段共光路的設(shè)計(jì)，近來(lái)出現(xiàn)了許多二光、三光甚至四光合一的光學(xué)系統(tǒng)。在這些多光合一的光學(xué)系統(tǒng)中，多譜段共用光學(xué)薄膜的性能對(duì)于整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)的性能來(lái)說(shuō)至關(guān)重要。特別是當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)中多譜段共用的光學(xué)元件較多時(shí)，光學(xué)薄膜的優(yōu)劣可能使光學(xué)系統(tǒng)的總體透過(guò)率有非常大的差別。因此，發(fā)展多譜段共用光學(xué)薄膜技術(shù)是提高多光合一光學(xué)系統(tǒng)性能的主要技術(shù)手段。
    現(xiàn)階段的多光合一光學(xué)系統(tǒng)更多的是包括可見(jiàn)光和中、長(zhǎng)波紅外，多譜段共用光學(xué)薄膜主要有反射膜、多譜段寬光譜減反膜和分色膜。對(duì)于反射膜來(lái)說(shuō)，采用金屬反射的方法比較容易實(shí)現(xiàn)多譜段高反射率，提高金屬反射膜的環(huán)境適應(yīng)性是研究的重點(diǎn)。
波長(zhǎng)跨度較大的多譜段寬光譜減反膜對(duì)膜系設(shè)計(jì)和制備工藝的要求非常高。由于鍍膜材料的選擇范圍十分有限，因此膜系設(shè)計(jì)的轉(zhuǎn)圜余地很小，只能通過(guò)增加膜系的復(fù)雜程度來(lái)達(dá)到要求。越是復(fù)雜的減反膜系對(duì)鍍膜工藝的敏感程度就越高，這就要求鍍膜工藝有相當(dāng)?shù)姆€(wěn)定性。因此，多譜段寬光譜減反膜的先進(jìn)的膜系設(shè)計(jì)思想和穩(wěn)定的鍍膜工藝是主要的研究方向之一。
而多譜段的分色膜實(shí)現(xiàn)起來(lái)就更加困難。這主要由以下幾個(gè)特點(diǎn)決定：波長(zhǎng)跨度大；分色效率要求高；對(duì)環(huán)境適應(yīng)性要求高；有時(shí)包括大功率激光。這些特點(diǎn)給分色方案的確定、基底和鍍膜材料的選擇、膜系設(shè)計(jì)、鍍膜工藝等方面都帶來(lái)了很大的困難。必須經(jīng)過(guò)系統(tǒng)的研究才能逐漸將多譜段共用薄膜技術(shù)發(fā)展完善。